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Zweiphotonenphotoemission an Siliziden (SFB 292/E8) (Fauster)

Die elektronischen Zustände an geordneten epitaktischen Kobaltsilizidfilmen auf Si(111) und Si(100) sollen mit der winkel- und zeitaufgelösten Zweiphotonenphotoelektronenspektroskopie hinsichtlich Energie, Impuls und Lebensdauer bestimmt werden. Durch Variation der Schichtdicke können volumenartige Zustände von denen an den Grenzflächen zum Substrat oder zum Vakuum unterschieden werden. Die detaillierte Aufklärung der elektronischen Struktur soll zu einem besseren Verständnis der elektrischen und optischen Eigenschaften der Silizidfilme beitragen.
Beteiligte:
Dr. Michael Kutschera, Dipl. Phys. Christian Orth, Prof. Dr. Martin Weinelt

Laufzeit: 1.1.1999 - 31.12.2001

Förderer:
Deutsche Forschungsgemeinschaft

Mitwirkende Institutionen:
SFB 292: Mehrkomponentige Schichtsysteme

Publikationen
A. Kirakosian ; R. Bennewitz ; J. N. Crain ; Fauster, Thomas ; J.-L. Lin ; D. Y. Petrovykh ; F. J. Himpsel: Atomically accurate Si grating with 5.73 nm period. In: Appl. Phys. Lett. 79 (2001), S. 1608
Kentsch, Carsten ; Kutschera, Michael ; Weinelt, Martin ; Fauster, Thomas ; Michael Rohlfing: Electronic Structure of Si(100) Surfaces Studied by Two-Photon Photoemission. In: Phys. Rev. B 65 (2002), S. 035323
Seubert, Armin ; Schardt, Judith ; Weiß, Wolfgang ; Starke, Ulrich ; Heinz, Klaus ; Fauster, Thomas: Interface structure of ultrathin CoSi2 films epitaxially grown on Si(111). In: Appl. Phys. Lett. 76 (2000), S. 727
Weinelt, Martin ; Kutschera, Michael ; Fauster, Thomas ; Rohlfing, Michael: Dynamics of Exciton Formation at the Si(100) c(4 x 2) Surface. In: Phys. Rev. Lett. 92 (2004), S. 126801

Institution: Lehrstuhl für Festkörperphysik (Prof. Dr. Fausti)
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