Advanced Processes (AP)
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VORL; 2 SWS; Schein; ECTS: 5,0; Mi, 10:15 - 11:45, EE 0.135
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PF MAP-S-AP 2
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Freund, H.
Kaspereit, M.
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UE; 1 SWS; Schein; Fr, 12:15 - 13:45, T 0.75
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PF MAP-S-AP 2
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Kaiser, M.
Kaspereit, M.
Freund, H.
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VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; findet als Doppelstunde über halbes Semester statt; genaue Termine folgen; Do, 10:15 - 11:45, 0.68; ab 6.6.2019
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PF MAP-S-AP 2
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Datsevich, L.
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VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; Mi, 14:15 - 15:45, 3.71
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PF MAP-S-AP 2
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Egelhaaf, H.-J.
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VORL; 3 SWS; ECTS: 5; Beginn: 29.04.19, ACHTUNG: Die Sicherheitsbelehrung zum Praktikum (Pflicht!) incl. Gruppeneinteilung findet am Donnerstag, 2. Mai 2019 um 8:15 im KS I, Cauerstraße 4 statt!; Mo, 12:15 - 13:45, H6
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PF MAP-S-AP 2
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Thommes, M.
Müller, K.
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V/UE; 1 SWS; Lehrstuhl für Thermische Verfahrenstechnik, ACHTUNG: Die Sicherheitsbelehrung zum Praktikum (Pflicht!) incl. Gruppeneinteilung findet am Donnerstag, 2. Mai 2019 um 8:15 im KS I, Cauerstraße 4 statt!; Do, 8:15 - 9:45, KS I
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PF MAP-S-AP 2
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Thommes, M.
Müller, K.
Kriesten, M.
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VORL; 1 SWS; ben. Schein; ECTS: 1; Vertiefung zur VL Thin films: processing, characterization and functionalities; bitte Dr. Egelhaaf oder Dr. Batentschuk kontaktieren
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WPF MAP-S-AP ab 2
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Egelhaaf, H.-J.
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