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Wachstum von Siliziden mit Laserverdampferquellen (SFB 292/D7) (Fauster/Weinelt)

Die Anwendung der Laserverdampfung mit ihrer deutlich höheren Aufdampfrate im Vergleich zu thermischen Verdampfungsquellen auf das Wachstum ultradünner, epitaktischer Silizidfilme soll untersucht werden. Die Charakterisierung der hergestellten Filme soll in situ durch Augerelektronenspektroskopie und die Beugung langsamer Elektronen erfolgen. Durch winkelaufgelöste reguläre und Inverse Photoemission soll die elektronische Struktur der Silizidschichten und -oberflächen aufgeklärt werden.
Project manager:
Prof. Dr. Martin Weinelt

Project participants:
Dr. rer. nat. Matthias Löffler

Duration: 1.1.1999 - 31.12.2001

Sponsored by:
Deutsche Forschungsgemeinschaft

Mitwirkende Institutionen:
SFB 292: Mehrkomponentige Schichtsysteme

Publications
Weinelt, Martin ; Schwarz, Sergej ; Baier, Holger ; Müller, Stefan ; Hammer, Lutz ; Heinz, Klaus ; Fauster, Thomas: Structure of ultrathin Fe films on Cu(100) prepared by pulsed laser deposition. In: Phys. Rev. B 63 (2001), pp 205413
Weinelt, Martin ; Baier, Holger ; Schwarz, Sergej ; Fauster, Thomas: Structural Modification of Ultrathin Fe Films on Cu(100) Prepared by Pulsed Laser Deposition. In: Surf. Sci. 454-456 (2000), pp 746
Seubert, Armin ; Schardt, Judith ; Weiß, Wolfgang ; Starke, Ulrich ; Heinz, Klaus ; Fauster, Thomas: Interface structure of ultrathin CoSi2 films epitaxially grown on Si(111). In: Appl. Phys. Lett. 76 (2000), pp 727

Institution: Chair of Solid-State Physics
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