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Crystal Growth & Semiconductor Technology ET (MWT 3) (CGET)10 ECTS
(englische Bezeichnung: Crystal growth ET)

Modulverantwortliche/r: Peter Wellmann
Lehrende: Peter Wellmann, Jochen Friedrich


Start semester: WS 2015/2016Duration: 2 semesterCycle: halbjährlich (WS+SS)
Präsenzzeit: 110 Std.Eigenstudium: 190 Std.Language: Deutsch

Lectures:


Empfohlene Voraussetzungen:

Bachelor in Materialwissenschaft, Nanotechnologie, Energietechnik, Physik, Chemie oder in einem vergleichbaren Studiengang.

Inhalt:

Grundlagen des Kristallwachstums und der Halbleitertechnologie

  • Grundlagen des Kristallwachstums

  • Grundlagen der Silizium Halbleitertechnologie (Oxidation, Dotierung mittels Diffusion und Ionenimplantation, Ätzen, Metallisierung, Lithografie, Packaging)

Elektronische Bauelemente und Materialfragen

  • Korrelation von Bauelementfunktion (Bipolar-Diode, Bipolar-Transistor, Schottky-Diode, Feldeffekt-Transistor, Leucht- und Laserdiode) mit Materialeigenschaften

  • Grundlagen Epitaxie

Praktikum

  • Czochralski Kristallwachstum von InSb

  • Modellierung in der Kristallzüchtung

  • Halbleitercharakterisierung

Lernziele und Kompetenzen:

Die Studierenden

  • erwerben fundierte Kenntnisse über Materialeigenschaften und deren Anwendungen in elektronischen Bauelementen

-lernen experimentelle Techniken in den Werkstoffwissenschaften kennen und können sie selbständig anwenden

  • können in Gruppen kooperativ und verantwortlich arbeiten

Literatur:

Wird in den Lehrveranstaltungen angegeben.


Studien-/Prüfungsleistungen:

Crystal Growth ET (MWT 3) (Prüfungsnummer: 991457)

(englischer Titel: Crystal growth ET)

Prüfungsleistung, mündliche Prüfung, Dauer (in Minuten): 30, benotet
Anteil an der Berechnung der Modulnote: 100.0 %
weitere Erläuterungen:
zusätzlich Absolvierung des Praktikums!

Erstablegung: WS 2015/2016, 1. Wdh.: SS 2016
1. Prüfer: Peter Wellmann

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