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Grundlagen der Nanotechnologie II (B8)15 ECTS (englische Bezeichnung: Fundamentals in Nanotechnology II)
Modulverantwortliche/r: Heinz Werner Höppel Lehrende:
Heinz Werner Höppel, Joachim Kaschta, Stefan Sandfeld, Tobias Dirnecker
Startsemester: |
WS 2015/2016 | Dauer: |
2 Semester | Turnus: |
jährlich (WS) |
Präsenzzeit: |
196 Std. | Eigenstudium: |
254 Std. | Sprache: |
Deutsch |
Lehrveranstaltungen:
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Nano III: Materialien (WS 2015/2016)
(Vorlesung, 2 SWS, Heinz Werner Höppel, Mo, 10:15 - 11:45, H14; Beginn wegen Einführungsveranstaltungen erst am 26.10. !!)
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Praktikum Nanotechnologie 2 (WS 2015/2016)
(Praktikum, 5 SWS, Stefan Sandfeld, Di, 8:00 - 14:00, 3.31, Martensstr. 5; Zeit n.V., Praktikum WW; 6 Versuche im 2 - wöchigen Turnus)
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Nano IV: Halbleiter (SS 2016)
(Vorlesung, 2 SWS, Tobias Dirnecker, Do, 10:15 - 11:45, H2 Egerlandstr.3)
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Praktikum Nanotechnologie 3 (SS 2016)
(Praktikum, 5 SWS, Stefanie Fladischer et al., Di, 8:00 - 13:00, Praktikum WW; Vorbesprechung mit Sicherheitsbelehrung - TEILNAHMEPFLICHT)
Inhalt:
Folgende Inhalte werden vermittelt:
Herstellung von Nanometerialien
Definition von Nanomaterialien
Grundlagen der Thermodynamik und Besonderhetien bei Nanomaterialien
Mechanische Eigenschaften von NM
Severe Plastic Deformation
Bulk Metallic Glass
Bottom-up Verfahren
Schichttechnik
Magnetische Eigenschaften
Herstellung von Halbleitern
Eigenschaften von NM in Halbleitern
Lernziele und Kompetenzen:
- Analysieren
- Folgende Lernziele werden angestrebt:
Vertieftes Erlernen des vielfältigen strukturellen Aufbaus der Nanomaterialien
Vertiefung der Zusammenhänge zwischen derStruktur und den Eigenschaften von NM
Anwendung der Thermodynamik auf die Besonderheiten bei NM
Vertiefung des Wissens zu den mechanischen Eigenschaften und den Härtungsmechanismen bei NM
Erwerben von Grundlagen zur Herstellung von NM und Beurteilung unterschiedlicher Verfahren
Vertiefung der erlernten Inhalte durch Übung und Praktikum, Untersuchen der Asuwirkung von Nanostrukturen auf mechanische Eigenschaften
Verwendbarkeit des Moduls / Einpassung in den Musterstudienplan: Das Modul ist im Kontext der folgenden Studienfächer/Vertiefungsrichtungen verwendbar:
- Nanotechnologie (Bachelor of Science): 3-4. Semester
(Po-Vers. 2008 | weitere Module der Bachelorprüfung | Grundlagen der Nanotechnologie II)
Studien-/Prüfungsleistungen:
57101 Klausur Nano III (Materialien) + Nano IV (Prüfungsnummer: 57101)
- Prüfungsleistung, Klausur, Dauer (in Minuten): 90, benotet
- Anteil an der Berechnung der Modulnote: 100.0 %
- weitere Erläuterungen:
Zum Bestehen der Gesamtklausur müssen in jedem Prüfungsteil mindestens jeweils 33,33% der Punkte erzielt werden!
Bei Nichtbestehen nur eines Prüfungsteils muss die gesamte Prüfung wiederholt werden!
- Prüfungssprache: Deutsch
- Erstablegung: SS 2016, 1. Wdh.: WS 2016/2017, 2. Wdh.: keine Wiederholung
1. Prüfer: | Heinz Werner Höppel |
- Termin: 15.02.2016, 13:30 Uhr, Ort: H 10 TechF
Termin: 25.07.2016, 10:30 Uhr, Ort: H 9 TechF
Termin: 20.02.2017, 10:30 Uhr, Ort: H 10 TechF
Termin: 07.08.2017, 08:00 Uhr, Ort: H 7 TechF 1. Prüfer: | Tobias Dirnecker |
- Termin: 25.07.2016, 10:30 Uhr, Ort: H 9 TechF
Termin: 20.02.2017, 10:30 Uhr, Ort: H 10 TechF
57102 Praktikum Nano II (Prüfungsnummer: 57102)
- Studienleistung, Praktikumsleistung, unbenotet
- weitere Erläuterungen:
Es besteht Anwesenheitspflicht. Das Modul wird bestanden, wenn alle Vor- und Nachprotokolle vollständig vorliegen und vom jeweiligen Versuchsbetreuer hinsichtlich ihrer Richtigkeit abtestiert wurden. Die entsprechende Testatlkarte ist vom Studierenden in Eigenregie verantwortlich zu führen. Die vollständig ausgefüllte Testatkarte ist dann bis spätestens zu einem im UNIVIS gennanten Stichtag im Sekretariat von WW5 ( R. 1.70, Martensstr. 7) abzugeben.
- Prüfungssprache: Deutsch
- Erstablegung: WS 2015/20162. Wdh.: keine Wiederholung
1. Prüfer: | Stefan Sandfeld |
Praktikum Nano III (Prüfungsnummer: 57103)
(englischer Titel: Laboratory: Nano III)
- Studienleistung, Praktikumsleistung, unbenotet
- weitere Erläuterungen:
Es besteht Anwesenheitspflicht. Das Modul wird bestanden, wenn alle Vor- und Nachprotokolle vollständig vorliegen und vom jeweiligen Versuchsbetreuer hinsichtlich ihrer Richtigkeit abtestiert wurden. Die entsprechende Testatlkarte ist vom Studierenden in Eigenregie verantwortlich zu führen. Die vollständig ausgefüllte Testatkarte ist dann bis spätestens zu einem im UNIVIS gennanten Stichtag im Sekretariat von WW9 (R.1.213, Cauerstraße 6) abzugeben.
- Prüfungssprache: Deutsch
- Erstablegung: SS 20162. Wdh.: keine Wiederholung
1. Prüfer: | Joachim Kaschta |
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UnivIS ist ein Produkt der Config eG, Buckenhof |
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