MODERNE BESCHICHTUNGSTECHNOLOGIEN
Anwendung in Chemie-Ingenieurwesen und Werkstoffwissenschaften
WS 2003 / 20041. Klassifizierung der Beschichtungsprozesse.
Vergleich und Anwendung der einzelnen Beschichtungstechniken
1.1 Flüssigphasenprozesse
Sol-Gel Verfahren
Flüssigimprägnierung
Elektrophorese
1.2 Elektrolytische Prozesse
1.3 Spezielle Techniken
1.4 Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Sputtern
Verdampfen
Ion plating
Ion implantation
Molecular beam epitaxy
1.5 Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
2. Vorbehandlung der Substrate vor der Beschichtung
3. Grundlagen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
3.1 Precursoren und Reaktionen
Halogenide
Metallkarbonyle
Metallorganische Verbindungen
Hydride
3.2 Thermodynamik der CVD. Computerprogramme
3.3 Strömungsvorgänge im CVD-Reaktor. Kinetik und Stofftransportmechanismus. Geschwindigkeitslimitierende Schritte. Sirius-Programm
3.4 Wachstumsmechanismus und Struktur der Schichten
3.5 Simulation des CVD-Prozesses über Computer-Programme (Fluent, SiaMod, Fasttest, Phoenix-CVD)
4. Chemische Gasphaseninfiltration (CVI).
4.1 Isotherme CVI
4.2 CVI mit thermischem und Druck-Gradient. Puls-CVI
4.3 Beschichtung von Fasern
5 Methoden zur Charakterisierung dünner Schichten