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Grundlagen des Kristallwachstums und der Halbleitertechnologie

Lecturer
Prof. Dr.-Ing. Peter Wellmann

Details
Vorlesung
2 cred.h, ECTS studies, ECTS credits: 3
nur Fachstudium, Sprache Deutsch, englisches Skript
Time and place: Tue 12:15 - 13:45, 3.71

Fields of study
WPF MWT-MA-WET ab 1 (ECTS-Credits: 3)
WPF ET-MA-MWT ab 1 (ECTS-Credits: 3)
WPF NT-MA ab 1 (ECTS-Credits: 3)

Prerequisites / Organisational information
WW Prüfung Nr. 6 / Prüfung: mündlich

Contents
Kristallwachstum und Halbleitertechnologie
In dieser Vorlesung werden die Grundlagen der Kristallzüchtung elektronischer Materialien und die wichtigsten Verfahren zur Herstellung von elektronischen Halbleiterbauelementen aus Silizium besprochen. Die wesentlichen Techniken betreffen dabei die Kristallzüchtung aus der Schmelze, die Hertellung von Halbleiterscheiben, die Dotierung mittels Diffusion und Ionenimplantation, die Oxidation von Si zu SiO2, sowie die Metallisierung. Weiterhin werden die Grundprinzipien der lateralen Strukturierung mithilfe der Photolithographie und Ätztechniken besprochen.

Recommended literature
S.M. Sze; Semiconductor Devices – Physics and Technology (14 x T80/8S58(2))
P.J. Wellmann; Materialien der Elektronik und Energietechnik : Halbleiter, Graphen, funktionale Materialien; Springer Vieweg (2017), eBook ISBN 978-3-658-14006-9, DOI 10.1007/978-3-658-14006-9, Softcover ISBN 978-3-658-14005-2
  • Buch: T80/10 T 19

  • elektronisch: https://link.springer.com/book/10.1007%2F978-3-658-14006-9

ECTS information:
Title:
Fundamentals of Semiconductor technology

Credits: 3

Prerequisites
WW Test No. 6 / oral

Contents
Crystal Growth and Semiconductor Technology:
This course introduces the most important technologies which are used to fabricate electronic devices based on the semiconductor silicon. The most important techniques to be discussed are doping by diffusion and ion implantation, oxidation of Si to SiO2, as well as metallization. A further important topic is the planar technology, as photolithography and etching techniques.

Literature
S.M. Sze; Semiconductor Devices – Physics and Technology (14 x T80/8S58(2))
P.J. Wellmann; Materialien der Elektronik und Energietechnik : Halbleiter, Graphen, funktionale Materialien
  • Buch: T80/10 T 19

  • elektronisch: https://www.katalog.fau.de/TouchPoint/singleHit.do?methodToCall=showHit&curPos=1&identifier=2_SOLR_SERVER_605255701

Additional information
Expected participants: 15, Maximale Teilnehmerzahl: 25
www: http://www.studon.uni-erlangen.de/studon/goto.php?target=crs_359146

Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
Startsemester WS 2019/2020:
Crystal Growth ET (MWT 3) (CGET)
Crystal Growth MWT (M2 - M3) (CGMWT)
Halbleitertechnologie (CE5)
Kristallzüchtung und Halbleitertechnologie (CG-NT)
Materialien der Elektronik und Energietechnik mit Vertiefung Crystal Growth (M1_CG_WW6)

Department: Chair of Materials for Electronics and Energy Technology
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