Übung zu Optical Lithography
- Lecturer
- PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann
- Details
- Übung
2 cred.h, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Time and place: Fri 8:15 - 9:45, Hans-Georg-Waeber-Saal (außer Fri 19.10.2018); Mon 14:15 - 15:45, 0.157-115 (außer Mon 15.10.2018); comments on time and place: Keine Übung in der ersten Vorlesungswoche.
- Fields of study
- WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
- Additional information
- Expected participants: 13
- Assigned to: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester WS 2018/2019:
- Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
- Optical Lithography (OLITHO)
- Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
- Department: Chair of Electron Devices (Prof. Dr. Frey)
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