Übung zu Optical Lithography
- Lecturer
- PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann
- Details
- Übung
2 cred.h, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Time and place: Thu 10:15 - 11:45, Hans-Georg-Waeber-Saal; Mon 14:15 - 15:45, 0.157-115
- Fields of study
- WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
- Additional information
- Expected participants: 14
- Assigned to: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester WS 2017/2018:
- Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
- Optical Lithography (OLITHO)
- Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
- Department: Chair of Electron Devices (Prof. Dr. Frey)
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