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Chair of Electron Devices (Prof. Dr. Frey)
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Seminar on Selected Topics of Silicon Semiconductor Technology [SEM TeSi] -
- Lecturer:
- Marina Scharin
- Details:
- Seminar, 2 cred.h, graded certificate, ECTS: 2,5, nur Fachstudium
- Dates:
- Tue, 14:15 - 15:45, 0.111
Zeit und Ort flexibel in Absprache mit den Studenten möglich
Preliminary meeting: Tuesday, 14.4.2015, 13:00 - 14:00 Uhr, 0.111
- Fields of study:
- WPF ME-DH-SEM ab 6
WPF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-MA-MIK 1-4
WPF ME-BA-SEM 3-6
- Contents:
- Ziel des Seminars ist die selbstständige Erarbeitung und schlüssige Darstellung eines Themas aus dem Gebiet der Silicium-Halbleitertechnologie.
Als Grundlage dienen dabei Literaturvorgaben der Betreuer, die durch eigene Recherchen ergänzt werden sollen. Die Teilnehmer referieren im Rahmen eines 30-minütigen Vortrags über ihre Ergebnisse.
Die Einzelthemen werden in jedem Semester aus einem anderen Schwerpunkt gewählt. In den letzten Semestern wurden beispielsweise Schwerpunktthemen wie "Bauelementetechnologien", "Mikrosystemtechnik", "Kontamination in der Halbleiterelektronik" oder "Bauelemente-, Prozess- und Anlagensimulation" behandelt.
- Recommended literature:
- Frey, L. und Ryssel, H.: Folien der Vorlesungen Technologie integrierter Schaltungen und Prozessintegration und Bauelementearchitekturen (am Lehrstuhl erhältlich)
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Semiconductor and Device Measurement Techniques [HBMT-V] -
- Lecturers:
- Andreas Hürner, Sebastian Polster
- Details:
- Vorlesung, 3 cred.h, graded certificate, ECTS: 5, nur Fachstudium, Die Übung ist in die Vorlesungseinheiten integriert.
- Dates:
- Tue, 8:15 - 11:45, Hans-Georg-Waeber-Saal
- Fields of study:
- WPF WW-DH-MIC ab 6
WPF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-MA-MIK 1-4
WPF ME-DH-VF11 ab 6
WPF ME-BA-MG4 5-6
WPF ME-MA-MG4 1-3
WPF MWT-MA-MIC ab 1
WF MWT-BA 5-6
WPF NT-MA ab 1
- Contents:
- In der Vorlesung Halbleiter- und Bauelementemesstechnik werden die wichtigsten Messverfahren, die zur Charakterisierung von Halbleitern und von Halbleiterbauelementen benötigt werden, behandelt. Zunächst wird die Messtechnik zur Charakterisierung von Widerständen, Dioden, Bipolartransistoren, MOS-Kondensatoren und MOS-Transistoren behandelt. Dabei werden die physikalischen Grundlagen der jeweiligen Bauelemente kurz wiederholt. Im Bereich Halbleitermesstechnik bildet die Messung von Dotierungs- und Fremdatomkonzentrationen sowie die Messung geometrischer Dimensionen (Schichtdicken, Linienbreiten) den Schwerpunkt.
- Recommended literature:
- Vorlesungsskript
- Keywords:
- Halbleiterbauelemente, Messtechnik
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Semiconductor Devices [HBEL-V] -
- Lecturer:
- Lothar Frey
- Details:
- Vorlesung, 2 cred.h, für Anfänger geeignet
- Dates:
- Tue, 8:15 - 9:45, H9
single appointment on 14.4.2015, 12:15 - 13:45, H12
- Fields of study:
- WF MS-MA ab 1
PF ME-BA 4
PF MT-MA-MEL 1-2
WF C-MA ab 1
WF MWT-MA-TS ab 1
- Prerequisites / Organisational information:
- Unterlagen zur Vorlesung über StudOn erhältlich
- Contents:
- Die Vorlesung Halbleiterbauelemente vermittelt den Studenten der Elektrotechnik die physikalischen Grundlagen moderner Halbleiterbauelemente. Der erste Teil der Vorlesung befasst sich nach einer Einleitung mit Bewegungsgleichungen von Ladungsträgern im Vakuum sowie der Ladungsträgeremission im Vakuum und daraus abgeleiteten Bauelementen. In der anschließenden Behandlung von Ladungsträgern im Halbleiter werden die wesentlichen Aspekte der Festkörperphysik zusammengefasst, die zum Verständnis moderner Halbleiterbauelemente nötig sind. Darauf aufbauend werden im Hauptteil der Vorlesung die wichtigsten Halbleiterbauelemente, d.h. Dioden, Bipolartransistoren und Feldeffekttransistoren detailliert dargestellt. Einführungen in die wesentlichen Grundlagen von Leistungsbauelementen und optoelektronischen Bauelementen runden die Vorlesung ab.
- Recommended literature:
- Vorlesungsskript, am LEB erhältlich
Neamen, D.A.: Semiconductor Physics and Devices: Basic Principles, 2nd ed., McGraw-Hill (Richard D. Irwin, Inc., Burr Ridge), USA, 1997 Müller, R.: Grundlagen der Halbleiter-Elektronik: Band 1 der Reihe Halbleiter-Elektronik, 7. Auflage, Springer Verlag, Berlin, 1995
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Integrierte Schaltungen, Leistungsbauelemente und deren Anwendungen [SEM_POWER] -
- Lecturers:
- Tobias Dirnecker, u.a.
- Details:
- Seminar, graded certificate, ECTS: 2,5
- Dates:
- Fri, 13:15 - 14:45, 0.111
Preliminary meeting: Friday, 17.4.2015, 14:30 - 15:15 Uhr, 0.111
- Fields of study:
- WF EEI-MA ab 1
WF EEI-BA ab 5
WF ME-BA-SEM 6
WF ME-MA-SEM 3
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Nanoelectronics [NANOEL] -
- Lecturers:
- Lothar Frey, Michael Jank
- Details:
- Vorlesung, 2 cred.h
- Dates:
- Fri, 12:15 - 13:45, Hans-Georg-Waeber-Saal
- Fields of study:
- PF NT-MA 2
WPF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-MA-MIK 1-4
- Contents:
- 1. Skalierung von MOS Transitoren:
Einsatzspannungs-Absenkung, „Subthreshold Slope"
Band-Band Tunneln, „Drain Induced Barrier Lowering",
Beweglichkeitsdegradation,
Tunnelströme,
Gateverarmung,
Dotierstofffluktuationen,
Zuverlässigkeit2. Neue Architekturen und Materialien für Nano-MOS-Bauelemente:
Hoch epsilon Dielektrika,
„Metal Gate" Elektroden,
„Strained Silicon", SiGe, GeOI,
FinFET, TriGate Transistoren,
Nanowire Strukturen (Si-Nanotubes, Carbon Nanotubes),
Vertikale MOS Strukturen,
Schottky MOS 3. Erzeugung kleinster Strukturen:
Optische Lithographie für sub-50 nm,
EUV Lithographie,
Elektronenstrahl- und Ionenstrahllithogarphie,
Druck und Prägetechniken,
Selbstorganisation 4. Bauelemente der nichtflüchtigen Datenspeicherung:
Ladungsspeicherung in Dielektrika und Nanokristallen (Flash EPROM),
Multibit Zellen,
Ferroelektrische Speicherzellen,
Widerstandsprogrammierbare Zellen (MRAM, PCM, spannungs-programmierbare Zellen) 5. Bauelemente mit einzelnen Elektronen:
Single Electron Device,
Resonantes Tunneln,
Schaltbare Moleküle 6. Prinzipielle Grenzen:
Quantenmechanische Grenze,
Thermische Grenze,
Statistische Grenze
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Laboratory on Semiconductor and Device Metrology [Prak HLMT] -
- Lecturer:
- Florian Krach
- Details:
- Praktikum, 3 cred.h, certificate, ECTS: 2,5, nur Fachstudium, Weitere Informationen im StudOn-Bereich: http://www.studon.uni-erlangen.de/crs1192549.html
- Dates:
- time tbd, BR 1.161
Durchführung ggf. als Blockpraktikum in den Semesterferien
Preliminary meeting: Friday, 17.4.2015, 14:30 - 15:00 Uhr, BR 1.161
- Fields of study:
- WPF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-MA-MIK 1-4
WPF ME-MA-P 2-3
- Contents:
- Im Praktikum zur Halbleiter- und Bauelementemesstechnik wird ein Teil der in der gleichnamigen Vorlesung besprochenen Messverfahren praktisch durchgeführt. Zu Beginn des Praktikums wird die Relevanz der Messtechnik zur Prozesskontrolle aber auch in der Bauelementeentwicklung anhand eines typischen CMOS-Prozesses erläutert. Im Bereich Halbleitermesstechnik werden dann Versuche zur Scheibeneingangskontrolle, zu optischen Schichtdicken- und Strukturbreitenmessverfahren, sowie zur Profilmesstechnik durchgeführt. Im Bereich Bauelementemesstechnik werden MOS-Kondensatoren und MOS-Transistoren, Dioden, Widerstände und spezielle Teststrukturen elektrisch charakterisiert.
- Recommended literature:
- Dieter K. Schroder: Semiconductor Material and Devices Characterization, Wiley-IEEE, 2006
W.R. Runyan, T.J. Shaffner: Semiconductor Measurements and Instrumentations, McGraw-Hill, 1998 A.C. Diebold: Handbook of Silicon Semiconductor Metrology, CRC, 2001
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Laboratory on Microelectronics [PrakMikro] -
- Lecturer:
- Marina Scharin
- Details:
- Praktikum, 3 cred.h, certificate, ECTS: 2,5
- Dates:
- Preliminary meeting: Thursday, 16.4.2015, 12:30 - 14:00 Uhr, 0.111
- Fields of study:
- WPF EEI-BA-MIK 5-6
| | | | tbd. | | | |
Frickel, J. | |
| P1 LIKE-Praktikumsraum |
| | | tbd. | | | |
Rasim, F.R. | |
| | | tbd. | | | |
Röber, J. | |
| | | single appointment on 15.5.2015, single appointment on 22.5.2015, single appointment on 29.5.2015 | 9:00 - 10:00 | BR 1.161 | |
Scharin, M. | |
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Laboratory on Silicon Semiconductor Processing [Prak TeSi] -
- Details:
- Praktikum, 3 cred.h, certificate, ECTS: 2,5, nur Fachstudium
- Dates:
- Preliminary meeting: Monday, 13.4.2015, 16:00 - 17:00 Uhr, 0.111
- Fields of study:
- WPF ME-DH-PEEI ab 5
WPF EEI-MA-MIK 1-4
WPF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-BA-LE 5-6
WPF EEI-MA-LE 1-4
WPF ME-MA ab 1
- Contents:
- Das Praktikum zur Technologie der Silicium-Halbleiterbauelemente vermittelt einen ersten praktischen Einstieg in die Halbleitertechnologie. Im Verlauf des Herstellungsprozesses einer Solarzelle werden die Herstellungsschritte Oxidation, Implantation, Lithographie, Ätzen und Metallisierung durchgeführt. Darüber hinaus werden wichtige Messverfahren zur Prozesskontrolle wie Schichtdickenmessverfahren, Schichtwiderstandsmessverfahren vorgestellt und zum Schluss die hergestellten Solarzellen an Hand ihrer Strom/Spannungs-Kennlinie elektrisch charakterisiert (Wirkungsgrad etc.).
- Recommended literature:
- Frey, L.: Skripten zu den Vorlesungen Technologie integrierter Schaltungen und Prozessintegration und Bauelementearchitekturen (am Lehrstuhl erhältlich)
Götzberger, A., Voß, B., Knobloch, J.: Sonnenenergie: Photovoltaik, Teubner Verlag, Stuttgart, 1994
| | | | Wed | 8:15 - 11:45 | 0.111 | |
Dirnecker, T. | |
| | | Wed | 13:00 - 14:30 | BR 1.161 | |
N.N. | |
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Process and Device Simulation [SimP&B-V] -
- Lecturer:
- Jürgen Lorenz
- Details:
- Vorlesung, 2 cred.h, graded certificate, ECTS: 2,5, nur Fachstudium, Zur Lehrveranstaltung werden freiwillige Übungen angeboten
- Dates:
- Wed, 16:00 - 17:30, room tbd
Vorlesung: Mi., 16:00-17:30 Uhr im Seminarraum 1 des IISB (Schottkystr.10); (Kontakt: juergen.lorenz@iisb.fraunhofer.de)
- Fields of study:
- WF EEI-BA ab 5
WF EEI-MA-MIK ab 1
- Contents:
- In der Halbleitertechnologie wird eine Vielzahl von Prozessschritten zur Herstellung der Bauelemente verwendet. Aufgabe der Prozesssimulation ist die Voraussage vor allem der Geometrien und Dotierungsverteilungen dieser Bauelemente, woraus dann mithilfe der Bauelementesimulation die elektrischen Eigenschaften abgeleitet werden können. Insgesamt dient die Simulation dem besseren Verständnis der Prozesse und Bauelemente sowie der Reduktion der Entwicklungszeiten und –kosten.
In dieser zweistündigen Vorlesung werden die zur Beschreibung der einzelnen Prozessschritte verwendeten physikalischen Modelle dargestellt, wobei sowohl auf die historische Entwicklung als auch auf den aktuellsten Stand der Forschung eingegangen wird. Zur Auswertung dieser Modelle in ein- und mehrdimensionalen Simulationsprogrammen benötigte Algorithmen werden zusammengefasst. Anhand von Anwendungsbeispielen werden spezielle technologische Effekte und ihre simulationsmäßige Beschreibung diskutiert. Desweiteren werden die Grundlagen der Bauelementesimulation dargestellt. Die Vorlesung schließt mit einer Bestandsaufnahme der in der Industrie verbreitetsten Prozesssimulationsprogramme sowie einem Ausblick auf die weitere Entwicklung des Gebiets sowie seiner Anwendungen.
- Keywords:
- Halbleitertechnologie Bauelemente Simulation
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Process Integration and Device Architecture [PiBa-V] -
- Lecturer:
- Lothar Frey
- Details:
- Vorlesung, 2 cred.h, graded certificate, ECTS: 5, nur Fachstudium
- Dates:
- Tue, 14:15 - 15:45, Hans-Georg-Waeber-Saal
- Fields of study:
- WPF ME-BA-MG4 5-6
PF EEI-BA-MIK 5-6
PF EEI-MA-MIK 1-4
WPF ME-MA-MG4 1-3
WPF NT-MA ab 1
- Contents:
- In dieser Vorlesung werden die physikalischen Anforderungen an integrierte Bauelemente und deren Umgebung definiert und Lösungsansätze anhand von Prozess-Sequenzen vorgestellt.
Insbesondere soll dabei dargelegt werden, wie durch die stetige Verkleinerung der Strukturen neue prozesstechnische Verfahren zur Einhaltung der an die Technologie gestellten Forderungen notwendig werden.
In einer Einleitung werden kurz die Methoden der Herstellung (vgl. Technologie integrierter Schaltungen) vorgestellt. Die für Mikroprozessoren und Logikschaltungen wichtige CMOS-Technik wird im Anschluss daran ausführlich behandelt, gefolgt von der Bipolartechnik und der BiCMOS-Technik, bei der sowohl CMOS, als auch
Bipolarschaltungen auf einem Chip integriert werden. Der nächste Vorlesungsabschnitt widmet sich den statischen und dynamischen Speichern, hier werden sowohl die wichtigsten Speicherarten (DRAM, SRAM, EPROM, Flash) vorgestellt, als auch die notwendigen Technologieschritte. Ein kurzes Kapitel befasst sich mit dem Aufbau von Leistungsbaulelementen. Die Problematik der Metallisierung sowie die Aufbau- und Verbindungstechnik, die für alle Bauelemente ähnlich ist, wird im Anschluss behandelt. Das letzte Kapitel beinhaltet Aspekte zur Ausbeute und Zuverlässigkeit von Bauelementen.
- Keywords:
- Halbleitertechnologie
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Seminar on Theses [SEM Stud MA] -
- Lecturers:
- Christian David Matthus, Tobias Dirnecker, u.a.
- Details:
- Seminar, 2 cred.h, nur Fachstudium
- Dates:
- Fri, 10:30 - 13:00, 0.111
single appointment on 13.3.2015, 11:15 - 14:30, 0.111
block seminar 18.7.2015-30.9.2015 Fri, 13:00 - 15:00, 0.111
In Kooperation mit FhG IISB.
to 30.9.2015
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