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Übung zu Optical Lithography
- Dozent/in
- PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann
- Angaben
- Übung
2 SWS, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit und Ort: Do 12:15 - 13:45, Hans-Georg-Waeber-Saal, 0.157-115; Bemerkung zu Zeit und Ort: On 29th Oct, 19th Nov and 10th Dec the course starts only at 13.00.
- Studienfächer / Studienrichtungen
- WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
- Zusätzliche Informationen
- Erwartete Teilnehmerzahl: 19
- Zugeordnet zu: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester WS 2015/2016:
- Optical Lithography (OLITHO)
- Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
- Institution: Chair of Electron Devices (Prof. Dr. Frey)
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