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Mikroelektronik
	Entwurf Integrierter Schaltungen II [EIS2] VORL; 3 SWS; ben. Schein; ECTS: 5; siehe VLSI II für englische Vorl.; Di, 8:30 - 10:00, H9; Di, 12:20 - 13:05, H6	WPF CE-BA-TA-ME 4 PF EEI-DH-MIK 6 WPF EEI-DH-INT 6	Frickel, J. Glauert, W.H.
	Grundlagen der Elektrotechnik 2 [ETechnik2] VORL; 2 SWS; ECTS: 5; Fr, 8:30 - 10:00, H7; erster Termin: Mo.,11.4.,8:30 Uhr im Hörsaal H8	PF EEI-DG 2 WPF CE-BA-TA-ME 2 WPF CE-BA-TA-SS 2	Schmidt, L.-P.
	Prozessintegration und Bauelementearchitekturen VORL; 2 SWS; ben. Schein; ECTS: 5; (entspricht nach alter Prüfungsordnung Technologie der Siliciumhalbleiterbauelemente II); Mo, 12:30 - 14:00, Hans-Georg-Waeber-Saal	WPF CE-BA-TA-ME 4	Ryssel, H.
	Übungen zu Entwurf Integrierter Schaltungen II [ÜbEIS2] UE; 1 SWS; Di, 13:05 - 13:50, H6	WPF CE-BA-TA-ME 4 PF EEI-DH-MIK 6 WPF EEI-DH-INT 6	Frickel, J. Dichtl, T.
	Übungen zu Grundlagen der Elektrotechnik 2 [ETechnik2 Ü] UE; 2 SWS; Mo, 8:30 - 10:00, H8; Mi, 8:30 - 10:00, HF-Technik: SR 5.14; Mo, Mi, 8:30 - 10:00, R4.15; Fr, 10:15 - 11:45, HF-Technik: SR 5.14	WPF CE-BA-TA-ME 2 WPF CE-BA-TA-SS 2	Martius, S. Schaller, G. Weinzierl, J. Schneiderbanger, D.
	Übungen zu Prozessintegration und Bauelementearchitekturen UE; 2 SWS; Di, 10:15 - 11:45, 0.111	WPF CE-BA-TA-ME 4	Kaiser, J.

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