Advanced Processes (AP)

	Reactors [React] VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; findet als Doppelstunde über halbes Semester statt; Do, 14:15 - 15:45, 0.111; ab 19.4.2018				PF MAP-S-AP 2	Datsevich, L.
	Thin films: processing, characterization and functionalities. VORL; 1 SWS; ECTS: 1,5; Mi, 8:15 - 9:45, 3.71; ab 18.4.2018				PF MAP-S-AP 2	Brabec, Ch.J. Halik, M. Egelhaaf, H.-J.
	Vertiefung Thermische Verfahrenstechnik (VL) VORL; 3 SWS; ECTS: 5; Beginn: 12.04.18; Do, 12:15 - 13:45, KS I; Fr, 10:15 - 11:45, KS I				PF MAP-S-AP 2	Müller, K. Freitag, D.
	Vertiefung Thermische Verfahrenstechnik (UE) UE; 1 SWS; Lehrstuhl für Thermische Verfahrenstechnik; Di, 08:15 - 09:45, KS II				PF MAP-S-AP 2	Kögl, Th.