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Laven, Johannes ; Schulze, H.-J. ; Häublein, Volker ; Niedernostheidem, F.-J. ; Schulze, H. ; Ryssel, Heiner ; Frey, Lothar:
Deep Doping Profiles in Silicon Created by MeV Hydrogen Implantation: Influence of Implantation Parameters.
In: AIP Conf. Proc. 1321 (2011), Nr. 1, S. 257-260
[doi>10.1063/1.3548365]
Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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