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Laven, Johannes ; Schulze, H.-J. ; Häublein, V ; Niedernostheide, F.-J. ; Schulze, H. ; Ryssel, Heiner ; Frey, Lothar: Deep doping profiles in silicon created by MeV proton implantation: Influence of implantation parameters. Vortrag: 18th Intl. Conference on Ion Implantation Technology, Kyoto, Japan, 7. Juni.2010
Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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