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Steen, Christian ; Nutsch, Andreas ; Pichler, Peter ; Ryssel, Heiner:
Characterization of the impurity profile at the SiO2/Si interface using a combination of total reflection X-ray fluorescence spectrometry and successive etching of silicon,.
In: Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy 62 (2007), Nr. 5, S. 481-484
[doi>10.1016/j.sab.2007.04.010]

Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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