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Steen, Christian ; Nutsch, Andreas ;
Pichler, Peter
;
Ryssel, Heiner
:
Characterization of the impurity profile at the SiO2/Si interface using a combination of total reflection X-ray fluorescence spectrometry and successive etching of silicon,
.
In:
Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy
62 (2007), Nr. 5, S. 481-484
[doi>
10.1016/j.sab.2007.04.010
]
Institution:
Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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