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Steen, Christian ; Nutsch, Andreas ; Pichler, Peter ; Ryssel, Heiner: Characterisation of the Impurity Profile at the Interface SiO2/ Si Using a Combination of Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry and Successive Etching of Silicon. Vortrag: 11th Conference on Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis and Related Methods (TXRF 2005), Budapest, Hungary, 18. - 22. September.2005
Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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