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Lorenz, Jürgen ; Ryssel, Heiner ; Bär, Eberhard ; Nguyen, P.:
Modeling of Chemical-Mechanical Polishing on Patterned Wafers as Part of Integrated Topography Process Simulation.
In: MAM2004 (Veranst.):
Microelectronic Engineering
(MAM2004, Leuven, Belgium, 07.03.2004). Bd. 76.
2004, S. 89-94.
[doi>10.1016/j.mee.2004.07.018]

Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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