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Lorenz, Jürgen
;
Ryssel, Heiner
; Bär, Eberhard ; Nguyen, P.
:
Modeling of Chemical-Mechanical Polishing on Patterned Wafers as Part of Integrated Topography Process Simulation
.
In:
MAM2004
(Veranst.):
Microelectronic Engineering
(
MAM2004
, Leuven, Belgium, 07.03.2004).
Bd. 76.
2004, S. 89-94.
[doi>
10.1016/j.mee.2004.07.018
]
Institution:
Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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