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Hettwer, A. ; Benesch, N. ; Schneider, C. ; Pfitzner, Lothar ; Ryssel, Heiner:
Phi Scatterometry for Integrated Linewidth and Process Control in DRAM Manufacturing.
In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 15 (4) (2002), S. 470

Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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