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Jank, Michael ; Lemberger, Martin ; Frey, Lothar ; Ryssel, Heiner:
Gate Oxide Damage Due to Through the Gate Implantation in MOS-Structures with Ultrathin and Standard Oxides.
In: Ryssel, Heiner ; Frey, Lothar ; Gyulai ; Glawischnig (Hrsg.) : Proceedings IIT 2000
(XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, 17.-22. September 2000).
2000, S. 103-106.
Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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