Grundlagen der Nanotechnologie II (B8)15 ECTS
(englische Bezeichnung: Fundamentals in Nanotechnology II)
(Prüfungsordnungsmodul: Grundlagen der Nanotechnologie II)

Lehrveranstaltungen:

• • Nano III: Materialien (WS 2016/2017)
    (Vorlesung, 2 SWS, Heinz Werner Höppel, Di, 16:15 - 17:45, H10; Beginn: 18.10.)
  • Praktikum Nanotechnologie 2 (WS 2016/2017)
    (Praktikum, 5 SWS, Stefan Sandfeld, Di, 8:00 - 14:00, 3.31, Martensstr. 5; 6 Versuche im 2 - wöchigen Turnus)
  • Nano IV: Halbleiter (SS 2017)
    (Vorlesung, 2 SWS, Tobias Dirnecker, Do, 10:15 - 11:45, H5)
  • Praktikum Nanotechnologie 3 (SS 2017)
    (Praktikum, 5 SWS, Anwesenheitspflicht, Stefanie Rechberger et al., Di, 8:00 - 13:00, Praktikum WW, (außer Di 25.4.2017); Vorbesprechung mit Sicherheitsbelehrung - TEILNAHMEPFLICHT)

Inhalt:

Folgende Inhalte werden vermittelt:

• Herstellung von Nanometerialien

• Definition von Nanomaterialien

• Grundlagen der Thermodynamik und Besonderhetien bei Nanomaterialien

• Mechanische Eigenschaften von NM

• Severe Plastic Deformation

• Bulk Metallic Glass

• Bottom-up Verfahren

• Schichttechnik

• Magnetische Eigenschaften

• Herstellung von Halbleitern

• Eigenschaften von NM in Halbleitern
  

Lernziele und Kompetenzen:

Analysieren

Folgende Lernziele werden angestrebt:

• Vertieftes Erlernen des vielfältigen strukturellen Aufbaus der Nanomaterialien

• Vertiefung der Zusammenhänge zwischen derStruktur und den Eigenschaften von NM

• Anwendung der Thermodynamik auf die Besonderheiten bei NM

• Vertiefung des Wissens zu den mechanischen Eigenschaften und den Härtungsmechanismen bei NM

• Erwerben von Grundlagen zur Herstellung von NM und Beurteilung unterschiedlicher Verfahren

• Vertiefung der erlernten Inhalte durch Übung und Praktikum, Untersuchen der Asuwirkung von Nanostrukturen auf mechanische Eigenschaften

Verwendbarkeit des Moduls / Einpassung in den Musterstudienplan:

1. Nanotechnologie (Bachelor of Science): 3-4. Semester
   (Po-Vers. 2008 | TechFak | Nanotechnologie (Bachelor of Science) | weitere Module der Bachelorprüfung | Grundlagen der Nanotechnologie II)

Studien-/Prüfungsleistungen:

57101 Klausur Nano III (Materialien) + Nano IV (Prüfungsnummer: 57101)

Prüfungsleistung, Klausur, Dauer (in Minuten): 90, benotet

Anteil an der Berechnung der Modulnote: 100.0 %

weitere Erläuterungen:
Zum Bestehen der Gesamtklausur müssen in jedem Prüfungsteil mindestens jeweils 33,33% der Punkte erzielt werden! Bei Nichtbestehen nur eines Prüfungsteils muss die gesamte Prüfung wiederholt werden!

Prüfungssprache: Deutsch

Erstablegung: SS 2017, 1. Wdh.: WS 2017/2018, 2. Wdh.: keine Wiederholung

1. Prüfer:

Heinz Werner Höppel

Termin: 20.02.2017, 10:30 Uhr, Ort: H 10 TechF
Termin: 07.08.2017, 08:00 Uhr, Ort: H 7 TechF
Termin: 19.02.2018, 14:00 Uhr, Ort: H 10 TechF

1. Prüfer:

Tobias Dirnecker

Termin: 20.02.2017, 10:30 Uhr, Ort: H 10 TechF
Termin: 19.02.2018, 14:00 Uhr, Ort: H 10 TechF

57102 Praktikum Nano II (Prüfungsnummer: 57102)

Studienleistung, Praktikumsleistung, unbenotet

weitere Erläuterungen:
Es besteht Anwesenheitspflicht. Das Modul wird bestanden, wenn alle Vor- und Nachprotokolle vollständig vorliegen und vom jeweiligen Versuchsbetreuer hinsichtlich ihrer Richtigkeit abtestiert wurden. Die entsprechende Testatlkarte ist vom Studierenden in Eigenregie verantwortlich zu führen. Die vollständig ausgefüllte Testatkarte ist dann bis spätestens zu einem im UNIVIS gennanten Stichtag im Sekretariat von WW5 ( R. 1.70, Martensstr. 7) abzugeben.

Prüfungssprache: Deutsch

Erstablegung: WS 2016/20172. Wdh.: keine Wiederholung

1. Prüfer:

Stefan Sandfeld

Praktikum Nano III (Prüfungsnummer: 57103)

(englischer Titel: Laboratory: Nano III)

Studienleistung, Praktikumsleistung, unbenotet

weitere Erläuterungen:
Es besteht Anwesenheitspflicht. Das Modul wird bestanden, wenn alle Vor- und Nachprotokolle vollständig vorliegen und vom jeweiligen Versuchsbetreuer hinsichtlich ihrer Richtigkeit abtestiert wurden. Die entsprechende Testatlkarte ist vom Studierenden in Eigenregie verantwortlich zu führen. Die vollständig ausgefüllte Testatkarte ist dann bis spätestens zu einem im UNIVIS gennanten Stichtag im Sekretariat von WW9 (R.1.213, Cauerstraße 6) abzugeben.

Prüfungssprache: Deutsch

Erstablegung: SS 20172. Wdh.: keine Wiederholung

1. Prüfer:

Joachim Kaschta