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Übung zu Optical Lithography
Dozent/in
PD Dr. rer. nat.
Andreas Erdmann
Angaben
Übung
2 SWS, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit und Ort: Fr 8:15 - 9:45,
Hans-Georg-Waeber-Saal
(außer Fr 19.10.2018); Mo 14:15 - 15:45,
0.157-115
(außer Mo 15.10.2018); Bemerkung zu Zeit und Ort:
Keine Übung in der ersten Vorlesungswoche.
Studienfächer / Studienrichtungen
WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
Zusätzliche Informationen
Erwartete Teilnehmerzahl: 13
Zugeordnet zu:
Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling
Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
Startsemester WS 2018/2019
:
Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
Optical Lithography (OLITHO)
Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)
Institution:
Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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